PICOSUN R-200 標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng),PICOSUN®R-200標(biāo)準(zhǔn)ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā),例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LED、激光和3D對(duì)象,例如透鏡、光學(xué)器件、...
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PICOSUN R-200 標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng),PICOSUN®R-200標(biāo)準(zhǔn)ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā),例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LED、激光和3D對(duì)象,例如透鏡、光學(xué)器件、...
查看詳情PICOSUN™R-200高級(jí)型ALD系統(tǒng)是ALD科研設(shè)備市場的,在擁有百用戶
查看詳情PICOSUN®P-300BALD系統(tǒng)是專為生產(chǎn)MEMS設(shè)備(例如打印頭,傳感器和麥克風(fēng))以及各種3D物品(例如機(jī)械零件,玻璃或金屬薄板,硬幣,手表零件和珠寶,鏡片,光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植...
查看詳情產(chǎn)品型號(hào):Pioneer240、Pioneer180、Pioneer120Pioneer系列PLD系統(tǒng)---基于經(jīng)驗(yàn)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)Neocera利用PLD開展了深入廣泛的研究,建立了獲得薄膜質(zhì)量的臨界參數(shù)...
查看詳情PROLinePVD75薄膜沉積系統(tǒng)PROLinePVD75™是基于PVD75經(jīng)典款開發(fā)的新一代薄膜沉積系統(tǒng)
查看詳情德國SciDre公司推出的高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度,晶體生長腔壓力可達(dá)300bar,甚至10-5mbar的高真空
查看詳情MP系列微納3D打印機(jī)采用亞像素微掃描光引擎技術(shù),以半導(dǎo)體激光器陣列為光源,采用自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的掩膜生成器件,可實(shí)現(xiàn)μm級(jí)別的打印精度和不低于700mm³,具有的批量生產(chǎn)能力
查看詳情EP-M150采用金屬粉末床熔融技術(shù),成型室尺寸可達(dá)Φ153*100mm3(Z向可定制至240mm),可選單/雙激光打印模式,支持200/500W激光器,可打印不銹鋼、模具鋼、鈷鉻鉬、鈦合金、...
查看詳情EP-P280采用選擇性激光燒結(jié)(PolymerPowderBedFusion)技術(shù)對(duì)粉末材料(熔點(diǎn)低于230°C的高分子材料)進(jìn)行激光燒結(jié),設(shè)備光斑直徑最小為0.3mm,具有更好的打印細(xì)節(jié)和精度,可...
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